近期工程：制药厂废气净化设备光氧紫外线裂解技术
作者: Guanglv
来源: 未知
发布时间:2017-10-20 09:36
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制药厂废气净化设备光氧紫外线裂解技术
随着医化行业的发展，随之而来的环境污染问题日益凸显，特别是医化行业有机废气的区域环境污染，严重影响居民的正常生活，制约区域经济发展。据环保部之前公布的数据显示，中国制药工业总产值约占全国GDP的比例不到3%，而污染排放总量却占到了6%左右，其中高污染、高能耗的原料药行业问题尤为突出。
在医化行业中大量使用有机溶剂(如DMF、苯系物、有机胺、乙酸乙酯、二lv甲wan、丙酮、甲醇、乙醇、丁酮、乙mi、二lv乙烷、醋酸、lv仿等)，挥发形成了具有刺激性气味和恶臭的气体，并具有一定毒害性，长期排放必然恶化区域大气环境质量，并对附近居民的身体产生危害。因此，有效治制药行业VOCs污染已经成为亟待解决的重要问题。
制药厂废气净化设备UV光解主要工艺段技术原理：
众所周知，紫外线是由电磁波组成，其本身所带有的能量与波长直接有关，波长越短，能量越大。通过采用D波段内的真空紫外线（波长范围170~184.9nm），照射有机气体或恶臭气体分子，当这些气体分子吸收了这类紫外线光后，因紫外线光本身所带有的能量，使有机气体或恶臭气体分子内部发生裂解，化学键断裂，形成游离状态的原子或基团（C*、H*、O*等）。同时，混合气体中的氧气被紫外线光裂解形成游离的氧原子并结合生成臭氧【UV O2→O- O*(活性氧) O* O2→O3(臭氧)】；混合气体中的水蒸气被紫外线光裂解产生羟基【UV H2O→H OH-(羟基) 】，而这些生成的臭氧和羟基具有极强的氧化性，可将废气分子裂解产生的原子和基团（甚至是有机气体或恶臭气体分子）氧化成H2O和CO2等无污染的低分子化合物。另外，利用高能紫外线光束可裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，彻底达到脱臭及杀菌的目的。
制药厂废气净化设备光氧紫外线裂解技术包效果废气的光解氧化机理包括两个过程：
1.在产生高能离子群体的过程中，一定数量的有害气体分子受高能作用，本身分解成单质或转化为无害物质。
2.含有大量高能粒子和高活性的自由基的离子群体，与大分子气体（如苯、甲苯等）作用，打开了其分子内部的化学键，转化为无害的小分子物质。新生态的氧离子具有很强的氧化性，它能有效的氧化分解不受负离子作用控制的有机物。和废气反应后多余的氧离子（正），能与氧离子（负）很快结合成中性氧，因而不会更多地对设备及环境造成不利影响。
技术特dian：
（1）低温深度反应：
光催化氧化可在常温将空气、水和土壤中有机污染物完全氧化成无毒无害的物质。而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化氧化方法亦需要几bai度的高温。
（2）净化彻底：
它直接将空气中的有机污染物，完全氧化成无毒无害的物质，不留任何无二次污染，目前广泛采用活性炭吸附法不分解污染物，只是将污染源转移。
（3）绿色能源：
光催化可利用太阳光作为能源来活化光催化剂，驱动氧化一还原反应，而且光催化剂在反应过程中并不消耗。从能源角度而言，这一特征使光催化技术更具魅力。
（4）氧化性强：
大量研究表明，半导体光催化具有氧化性强的特点，对臭氧难以氧化的某些有机物如三lv甲wan、四氯化碳、六氯苯、都能有效地加以分解，所以难以降解的有机物具有特别意义，光催化的有效氧化剂是羟基自由基（OH），OH的氧化性高于常见的臭氧、双氧水、高锰酸钾、次氯酸等。
（5）广谱性：
光催化对从烃到羧酸的种类众多有机物有效，没过环保署公布的九大类14中污染物均被证实可通过光催化得到治理，即使对原子有机物如卤代烃、染料、含氮有机物、有机磷杀虫剂也有极佳的去除效果，一般经过持续反应可达到完全净化。
（6）寿命长：
理论上，催化剂的寿命是无限长。
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